数值孔径

据路透社报道,台积电研发资深副总经理Y.J. Mii在台积电技术论坛上表示,公司将在 2024 年引进ASML高数值孔径极紫外光(high-NA EUV)光刻机...台积电研发高级副总裁Y.J. Mii在台积电硅谷技术研讨会上表示:「展望未来,台积电将在 2024 年引入 High-NA EUV光刻机,以开发客户所需的相关基础设施和图案化解决方案,并推动创新.........

特别声明:本页面标签名称与页面内容,系网站系统为资讯内容分类自动生成,仅提供资讯内容索引使用,旨在方便用户索引相关资讯报道。如标签名称涉及商标信息,请访问商标品牌官方了解详情,请勿以本站标签页面内容为参考信息,本站与可能出现的商标名称信息不存在任何关联关系,对本页面内容所引致的错误、不确或遗漏,概不负任何法律责任。(反馈错误)

推荐关键词

最新资讯

24小时热搜

查看更多内容

大家正在看