ASML上周已经声明，高端DUV光刻机可以出口这也会让他们加快处理相应的订单。所谓浸没式光刻机，属于193nm光刻机，可以被用于16nm至7nm先进制程芯片的制造，但是目前也有被业界广泛应用在45nm及以下的成熟制程当中。对于今年的表现，ASML表示，将会加快对一些订单的处理，特别是高端DUV光刻机系列，以此来保证公司业绩强劲增长。...
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