今年3月8日，荷兰方面，计划对半导体技术出口实施新的管制，这些管制措施将在今天夏天之前开始实施。3月9日上午，荷兰光刻机巨头阿斯麦发布声明表示，ASML预计必须申请许可证方可出口DUV设备。至于所谓浸没式光刻机，属于193nm光刻机，可以被用于16nm至7nm先进制程芯片的制造，但是目前也有被业界广泛应用在45nm及以下的成熟制程当中。...
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