光罩薄膜是极紫外光刻工艺中的关键部件，指的是在光罩上展开一层薄膜，然后机器在上面绘制要在晶圆上压印的电路，以免光罩受空气中微尘或挥发性气体的污染，减少光掩模的损坏。光罩薄膜的供应商主要是荷兰ASML、日本三井化学和韩国SSTech，韩国的EUV薄膜一直被外部厂商垄断。有业内人士表示，三星推动EUV薄膜的开发，是为了更快的追赶上台积电。...
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