ASML的EUV光刻机

台积电今日(6月17日)在北美技术论坛上公布了新的制程路线图,定于2025年量产2nm工艺,其采用Nanosheet(纳米片电晶体)的微观结构,取代FinFET...台积电还雄心勃勃地提出,要在2025年前将成熟和专业化制程的产能提高50%,包括兴建更多的晶圆厂...台积电表示,计划在2024年引入ASML的新一代EUV极紫外光刻机...这款光刻机价值高达4亿美元(约合26亿元人民币),双层巴士大、重超200吨.........

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