3月29日，清华大学设备采购信息平台发布了一则等离子体刻蚀机采购项目的公开招标公告。本次招标将采购一套等离子体刻蚀机，预算165万元人民币。据介绍，该等离子体刻蚀机将用于刻蚀薄膜铌酸锂晶圆，从而加工基于薄膜铌酸锂晶圆的电光器件。技术指标要求：－ 真空系统：分子泵抽速1300L/s、干泵抽速100m3/h；－ 下电极：满足8英寸(200mm)样品刻蚀需要，更小样品或碎片可贴片装载；－ 软件和控制系统：要求自主版权的软件、Windows操作系统软件；－ 机台工艺能力：主要用于刻蚀薄膜铌酸锂材料、介质材料等。等离子刻蚀机，又叫等离子蚀刻机?...
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