Intel官方宣布，位于俄勒冈州的晶圆厂已经收到ASML发货的全球第一台高NAEUV极紫外光刻机，型号为TwinscanEXE:5000”，它将帮助Intel继续推进摩尔定律。Intel早在2018年就向ASML订购了这种新一代光刻机，将用于计划今年量产的Intel18A制造工艺，也就是1.8nm级别。新光刻机的价格估计至少3亿美元，甚至可能达到或超过4亿美元，也就是逼近人民币30亿元现有低NAEUV光刻机需要2亿美元左右。...
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网络媒体对“极紫外光刻”描述
三星领先的下一代制造工艺的关键推动因素
使用极紫外（EUV）波长的下一代光刻技术
传统光刻技术的拓展
备受众多企业关注的光刻技术之一
应用于现代集成电路制造的光刻技术
投影光刻技术
最具潜力的下一代光刻技术
目前能力最强且最成熟的技术
下一代光刻技术
搜索引擎对“极紫外光刻”的分析
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波长：10-14纳米
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分辨率：30nm以下
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英语：Extreme ultra-violet
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来自于：ASML
网友给“极紫外光刻”贴的标签
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网络媒体对“极紫外光”描述
光学家高度重视的特种光源
半导体制程推向3nm的重大利器
整个光谱当中非常有用的一个波段
晶圆制造迈入更先进的利器
曝光显影设备
近年全球半导体业最重要的技术变革
研究化学反应动力学最好的手段之一
管制项目
搜索引擎对“极紫外光”的分析
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波长：13.5nm
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也称为：真空紫外光
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关键材料：日制光刻胶
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独家生产者：ASML
网友给“极紫外光”贴的标签
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