站长之家 - 数码 2019-07-03 15:07

ASML研发第二代EUV光刻机:性能提升70% 2025年问世

《ASML研发第二代EUV光刻机:性能提升70% 2025年问世》文章已经归档,站长之家不再展示相关内容,下文是站长之家的自动化写作机器人,通过算法提取的文章重点内容。这只AI还很年轻,欢迎联系我们帮它成长:

半导体制造过程中最复杂也是最难的步骤就是光刻,成本能占到整个生产过程的1/3,光刻机也因此成为最重要的半导体制造装备,没有之一。目前最先进的光刻机是荷兰ASML公司生产的EUV光刻机,每台售价超过1亿美元,而且供不应求。2019年,台积电、三星都会开始量产7nm EUV工艺,现有的EUV光刻机也差不多成熟了,虽然产量比起传统的DUV光刻机还有所不如,不过已经能够稳定量产了,7nm及明年的5nm节点上EUV光刻机都会是重点。EUV光刻机未来还能怎么发展?2016年ASML公司宣布斥资20亿美元收购德国蔡司公司25%的股份,并投资数亿美元合作研发新一代透镜,而ASML这么大手笔投资光学镜头公司就是为了研发新一代EUV光刻机。日前韩媒报道称,ASML公司正积极投?...

......

本文由站长之家用户“快科技”投稿,本平台仅提供信息索引服务。由于内容发布时间超过平台更新维护时间,为了保证文章信息的及时性,内容观点的准确性,平台将不提供完整的内容展现,本页面内容仅为平台搜索索引使用。需阅读完整内容的用户,请联系作者获取原文。

推荐关键词

24小时热搜

查看更多内容

大家正在看