全球科技巨头 Intel 近日宣布，其位于俄勒冈州的晶圆厂收到了来自 ASML 的全球首台高数值孔径（NA）极紫外（EUV）光刻机，型号为 Twinscan EXE:5000。此举标志着 Intel 在推动摩尔定律方面迈出了关键一步。
Intel 于 2018 年预订了这款新一代光刻机，它将应用于计划于今年量产的 Intel 18A 制造工艺，即 1.8nm 级别。
此外，Intel 还订购了改进型的 Twinscan EXE:5200，预计将在 2025-2026 年用于更先进的工艺。
据报道，ASML 将在 2024 年生产最多 10 台新一代高 NA EUV 光刻机，其中 Intel 预订了多达 6 台。到 2027-2028 年，ASML 的年产量预计将增加到约 20 台。
新光刻机的成本估计至少为 3 亿美元，甚至可能高达或超过 4 亿美元，接近人民币 30 亿元，而现有的低 NA EUV 光刻机成本约为 2 亿美元。
