三星公司在2月20日宣布，其新的EUV（远紫外线）半导体生产线已开始大规模生产，该生产线将为客户生产 7 纳米或更小的芯片。该新V1 生产线位于该公司在韩国华城的工厂，是第一条专门用于EUV光刻技术的生产线。三星表示，公司将使用 7 纳米及以下工艺节点生产芯片。该公司还将采用 7 纳米和 6 纳米工艺生产移动芯片，并计划最终生产小至 3 纳米的芯片。
三星：EUV半导体生产线已开始大规模生产，将生产7纳米或更小的芯片
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